黄仁勋：中国在AI基础设施与能源方面具优势
英伟达（Nvidia）首席执行官黄仁勋近日表示，中国在人工智能（AI）发展所需的基础设施建设和能源供给方面具备显著优势，尽管美国在高端AI芯片领域仍保持领先，但不能低估中国的制造能力和追赶速度。
黄仁勋在11月下旬与美国战略与国际问题研究中心（CSIS）主席约翰·哈姆雷的对话中指出，中美在AI竞争中的差距不仅体现在芯片技术上，还体现在基础设施建设效率和能源供给能力上。他表示，在美国从破土动工到建成一个支持AI超级计算机的数据中心，往往需要约三年时间，而中国在大型工程建设上的速度“令人震惊”。
黄仁勋同时对两国能源供给能力的对比表示担忧。他指出，中国目前的能源总量约为美国的两倍，且能源产能仍在持续快速增长，而美国的能源增长趋势则相对平缓。他认为，充足且持续增长的能源供给将对支撑AI产业长期扩张起到关键作用。
尽管如此，黄仁勋强调，英伟达在支持AI的核心芯片和半导体制造工艺方面仍“领先中国数代”。但他也警告，外界若低估中国的制造能力，是一种战略误判，“任何认为中国无法实现高端制造的人，都忽视了关键现实”。
此前，黄仁勋曾因公开表示中国可能在AI竞赛中获胜引发关注，随后又澄清称中国只是“在时间上落后美国几个纳秒”。这一表态反映出他对中美AI竞争态势的复杂判断。
在美国市场，大型科技公司正持续加大对数据中心的投资力度。据数据中心承建商DataBank首席执行官拉乌尔·马尔蒂内克估算，当前美国每兆瓦数据中心的建设成本约在1000万至1500万美元之间，而一个中小型数据中心通常需要约40兆瓦电力。预计未来一年，美国将新增5至7吉瓦的数据中心算力，以满足“几乎无法满足的AI需求”，对应总投资规模约在500亿美元至1050亿美元之间。
黄仁勋同时对英伟达的长期前景表示乐观，认为美国推动制造业回流以及加大AI领域投资的政策，将有助于巩固其在全球AI产业链中的地位。
